無掩模曝光系統(tǒng)PALET
? 半導體曾被稱為“工業(yè)之米”。光刻技術是半導體工藝 設備開發(fā) 立體形狀 材料性能評價 生物技術 流體解析 學生實驗
讓光刻技術離您更近！
的基礎技術。需要光刻技術
的領域隨著時代的發(fā)展而不斷擴大，現(xiàn)在
它已成為微加工技術的代表，廣泛應用于MEMS、物理性能研究和生物技術等領域。
另一方面，
不僅，即使是現(xiàn)有的亞微米圖案曝光
設備，其設備尺寸也很大，設備價格也達到數(shù)千萬至數(shù)億日元，事實上，引進的障礙對環(huán)境、附帶設備、對使用者的技術水平要求極高。對于那些說“我對微加工感興趣，但附近沒有基礎設施”的研究人員和工程師來說，這個高障礙足以放棄開發(fā)主題。
“無掩模曝光系統(tǒng)PALET”實現(xiàn)了可以在任何地方安裝的設備尺寸、打破無掩模曝光系統(tǒng)常識的價格設定，以及允許您創(chuàng)建當場想到的圖案的簡單操作性。從用戶角度消除障礙的產(chǎn)品規(guī)格非常適合需要反復試驗的研究和原型設計應用程序。
通過這個“無掩模曝光系統(tǒng)PALET”，我們希望讓光刻技術變得更加熟悉，并有助于加速各種研究。
使用領域
領域
MEMS
生命科學
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