曝光設(shè)備原則
?說明測量曝光裝置的原理。暴露措施包括用于運輸光源，撓度鏡頭，光掩膜，冷凝鏡片，階段，硅晶片等的機器人。
鏡頭和光掩膜的精度非常高，并且舞臺的精度也很高。在操作過程中，曝光目標(biāo)精確地固定在舞臺上。在操作過程中，階段隨著每次曝光而移動，導(dǎo)致在整個暴露目標(biāo)中對暴露目標(biāo)描繪的大量模式。
從光源發(fā)出的短波長的光被偏轉(zhuǎn)透鏡定向，并被照射到光掩膜上，這是用于構(gòu)造電路模式的原型。穿過光掩膜的光聚焦為冷凝器鏡頭，描繪了針對暴露主題的非常小的電路模式。
一旦曝光在整個主題中完成，它將由機器人或類似設(shè)備運輸。一些產(chǎn)品旨在使液體接觸，從而更準(zhǔn)確地接觸。