什么是曝光裝置？
?曝光設備是一種用于制造站點的設備，例如半導體和液晶顯示器，該設備用于通過用光照射底物上的電路和像素等圖案，例如電路和像素。
由于使用了極強的光線，并且需要精確的控制，因此許多產(chǎn)品大，耗資約1億日元。曝光過程是一個過程，即使在半導體和液晶顯示器的制造中也確定設計數(shù)據(jù)模式（ CAD數(shù)據(jù)），從而使其成為非常重要的設備。每個公司都開發(fā)了各種曝光方法，并在設備中使用。
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