什么是雙梳光譜？
?光學(xué)頻率梳的縱向模式以非常精確的等間隔規(guī)則排列。縱模之間的間隔非常窄，為幾十MHz，使用頻譜分析儀等傳統(tǒng)儀器無(wú)法分離和測(cè)量每個(gè)分量。然而，使用雙梳光譜使之成為可能。當(dāng)重復(fù)頻率（f_1，f_2）略有不同的兩個(gè)光頻梳的光發(fā)生干涉時(shí)，會(huì)因頻率差而產(chǎn)生“光拍”。測(cè)量光拍頻的測(cè)量方法稱為光外差法，雙梳光譜法是在光頻梳的所有光譜中同時(shí)進(jìn)行光外差法的方法。這些光拍重疊的信號(hào)稱為干涉圖，它包含了兩個(gè)光頻率梳所擁有的所有波長(zhǎng)分量的信號(hào)。通過(guò)對(duì)干涉圖進(jìn)行傅里葉變換，將其轉(zhuǎn)化為頻率信息，可以在單次測(cè)量中得到光頻梳各頻率分量的強(qiáng)度。
